Nikon utvecklar nytt digitalt litografisystem med 0,5 mikrometers upplösning
Nikon har valts ut av japanska NEDO för att utveckla ett nytt digitalt litografisystem för avancerad kapsling av halvledare. Systemet har som mål att nå en upplösning på 0,5 mikrometer och halvera energiförbrukningen jämfört med traditionella system.
Den japanska organisationen New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO) har antagit Nikons förslag inom ett forsknings- och utvecklingsprogram för avancerad halvledartillverkning och post-5G-infrastruktur. Projektet syftar till att bygga tekniska grunder för framtida kommunikationssystem och samtidigt bidra till digitalisering och minskad klimatpåverkan.
Nikons utvecklingsarbete avser ett högprecist exponeringssystem för stora ytor inom avancerad kapsling, så kallad panel-level packaging. Behovet av kretsar med hög densitet och låg strömförbrukning drivs av växande datamängder från nästa generations kommunikationsteknik och AI.
Inom ramen för sin affärsplan har Nikon tidigare tagit fram digitala litografisystem med upplösningar på 1,0 µm och 1,5 µm samt en passningsnoggrannhet på ±0,3 µm eller bättre. Med det nya projektet siktar bolaget på en upplösning på 0,5 µm, en passningsnoggrannhet på ±0,15 µm eller bättre samt en halverad energiförbrukning jämfört med tidigare system.
